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概述
STP-XAC 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內提供高性能，并提高所有氣體的吞吐量。?
此泵基于新的平臺設計，提供各種功能以改善熱管理，從而增強在嚴苛制程中的性能，提高最大制程流能力，并減少腐蝕和沉積的影響。?
其出色的性能既適用于溫和的應用環(huán)境，也適用于嚴苛的環(huán)境，例如半導體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
先進的轉子設計??
增強的 H2、N2 和 Ar 性能
改進了在高真空到 2300 sccm 制程壓力范圍內的性能
免維護
軸磁懸浮系統(tǒng)??
無污染
低振動
創(chuàng)新性轉矩管理??
優(yōu)化的溫度管理系統(tǒng)??
高溫 TMS 能力
低沉積
內置冷卻機械裝置
更高的氣體吞吐量（加熱和未加熱）
延長壽命
可用于嚴苛制程
認證??
符合 SEMI?，具有 CE 標記，列于 UL 中
技術數據
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STP-XA2703C |
STP-XA3203C |
STP-XA4503C |
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入口法蘭 |
VG250 |
ISO320F |
VF300、ISO320F、VG350 |
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抽速 |
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? N2 |
2650 ls-1 |
3200 ls-1 |
4000 ls-1 |
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? H2 |
2050 ls-1 |
2300 ls-1 |
2500 ls-1 |
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壓縮比 |
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? N2 |
>108 |
>108 |
>108 |
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? H2 |
>6 x 103 |
>6 x 103 |
6 x 103 |
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極限壓力 |
10-7 Pa |
10-7 Pa |
10-7 Pa / 10-9 mbar |
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最大允許前級壓力 |
266 Pa |
266 Pa |
266 Pa / 2.66 mbar |
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最大允許氣體流量 |
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N2（水冷卻） |
2300 sccm (3.8 Pam3s-1) |
2300 sccm (3.8 Pam3s-1) |
2800 sccm/4.73 Pam3s-1 |
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Ar（水冷卻） |
1900 sccm (3.2 Pam3s-1) |
1900 sccm (3.2 Pam3s-1) |
2150 sccm/3.63 Pam3s-1 |
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額定速度 |
27500 rpm |
27500 rpm |
24000 rpm |
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啟動時間 |
8 min |
8 min |
12 分鐘 |
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固定位置 |
任何方向 |
任何方向 |
任何方向 |
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水冷卻流量 |
3 lmin-1 |
3 lmin-1 |
3 ls-1 |
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水冷卻溫度 |
5-25 °C (41-77 °F) |
5-25 °C (41-77 °F) |
5 – 25 °C / 41 – 77 °F |
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壓力 |
0.3 MPa |
0.3 MPa |
0.3 MPa |
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推薦的吹掃氣體流量 |
50 sccm (8.4 x 10-2 Pam3s-1) |
50 sccm (8.4 x 10-2 Pam3s-1) |
50 sccm/8.4 x 10-2 Pam3s-1 |
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輸入電壓 |
200 至 240 V 交流 (± 10) |
200 至 240 (± 10) V 交流 |
200 – 240 ±10 % V 交流 |
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功耗 |
1.5 kVA |
1.5 kVA |
1.5 KVA |
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泵重量 |
75 kg (165 lb) |
80 kg (176 lb) |
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控制器重量 |
12 kg (26.4 lb) |
12 kg (26.4 lb) |
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