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概述
Edwards 的高性能 STPHC 渦輪分子泵是為嚴(yán)苛的半導(dǎo)體應(yīng)用而設(shè)計的。這種泵經(jīng)過實踐檢驗的可靠性和一流的性能可以實現(xiàn)最大的制程靈活性。STPHC 已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了認(rèn)可。
應(yīng)用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
先進(jìn)的轉(zhuǎn)子技術(shù)
更高的氣體吞吐量
最大的制程靈活性
無油
低振動
高度可靠
免維護(hù)
可用于嚴(yán)苛制程
使用壽命延長
先進(jìn)的控制器設(shè)計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機(jī)驅(qū)動
無電池運行
緊湊型設(shè)計
占地面積小
半機(jī)架控制器
軸磁懸浮系統(tǒng)
無污染
少維護(hù)
任意方向操作
技術(shù)數(shù)據(jù)
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STPH301C |
STPH451C |
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入口法蘭 |
ISO100K |
ISO160K |
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出口 |
KF40 |
KF40 |
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吹掃口 |
KF10 |
KF10 |
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水冷卻接頭 |
PT1/4 |
PT1/4 |
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抽速 |
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N2 |
300 ls-1 |
450 ls-1 |
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H2 |
200 ls-1 |
300 ls-1 |
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壓縮比 |
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N2 |
>108 |
>108 |
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H2 |
103 |
103 |
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加熱時的極限壓力 |
10-7 Pa (10-9 Torr) |
10-7 Pa (10-9 Torr) |
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最大連續(xù)出口壓力 |
660 Pa (5 Torr) |
660 Pa (5 Torr) |
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最大氮氣吞吐量 |
2500 sccm |
2500 sccm |
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額定速度 |
48000 rpm |
48000 rpm |
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啟動時間 |
4 分鐘 |
4 分鐘 |
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最高入口法蘭溫度 |
120 °C |
120 °C |
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輸入電壓 |
100 至 120 (± 10) V 交流或200 至 240 (± 10) V 交流 |
100 至 120 (± 10) V 交流或200 至 240 (± 10) V 交流 |
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功耗 |
0.6 kw |
0.6 kw |
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泵重量 |
15 kg |
15 kg |
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控制器重量 |
9 kg |
9 kg |
