當(dāng)前位置： 首頁>>渦輪分子泵|英國愛德華真空泵 >>超高真空STP泵 超高真空STP泵
概述
Edwards STP用于電子顯微鏡和半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards 的轉(zhuǎn)子技術(shù)可實現(xiàn)一流的性能，最大的制程靈活性。STP 已經(jīng)由科學(xué)儀器、半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了認(rèn)可。
此 STP 泵在供貨時帶有入口篩網(wǎng)。
如需完整安裝，請訂購一臺 STP 泵、一個控制器、一根連接電纜和一根電源電纜。
應(yīng)用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應(yīng)用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
先進(jìn)的轉(zhuǎn)子技術(shù)
最大的制程靈活性
無油
低振動
高度可靠
免維護(hù)
先進(jìn)的控制器設(shè)計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機(jī)驅(qū)動
無電池運(yùn)行
緊湊型設(shè)計
占地面積小
半機(jī)架控制器
技術(shù)參數(shù)
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STP301 |
STP603 |
STP1003C |
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入口法蘭 |
ISO100，CF100 |
ISO160F |
ISO200F |
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出口 |
KF25 |
KF40 |
KF40 |
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抽速 |
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N2 |
300 ls-1 |
650 ls-1 |
1000 ls-1 |
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H2 |
300 ls-1 |
550 ls-1 |
800 ls-1 |
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壓縮比 |
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N2 |
>108 |
>108 |
>108 |
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H2 |
>2 x 104 |
>105 |
>105 |
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加熱時的極限壓力（VG/ISO 法蘭） |
6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr) |
6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr) |
10-7 Pa (10-9 Torr) |
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加熱時的極限壓力（ICF 法蘭） |
10-8 Pa (10-10 Torr) |
10-7 Pa (10-9 Torr) |
10-8 Pa (10-10 Torr) |
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最大連續(xù)出口壓力（環(huán)境空氣冷卻） |
13 Pa (0.1 Torr) |
13 Pa (0.1 Torr) |
13 Pa (0.1 Torr) |
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額定速度 |
48000 rpm |
35000 rpm |
35000 rpm |
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啟動時間 |
3 min |
6 分鐘 |
6 分鐘 |
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最高入口法蘭溫度 |
120 °C |
120 °C |
120 °C |
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輸入電壓 |
100 至 120 (± 10%) V 交流或200 至 240 (± 10%) V 交流 |
100 至 120 (± 10) V 交流或200 至 240 (± 10) V 交流 |
100 至 120 (± 10) V 交流或至 240 (± 10) V 交流 |
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啟動時的功耗 |
0.55 kVA |
0.8 kVA |
0.8 kVA |
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泵重量 |
11 kg |
31 kg |
31 kg |
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控制器重量 |
7 kg |
9 kg |
9 kg |
